Repeatable Photoinduced Insulator-to-Metal Transition in Yttrium Oxyhydride Epitaxial Thin Films
Yuya Komatsu, Ryota Shimizu, Ryuhei Sato, Markus Wilde, Kazunori Nishio, Takayoshi Katase, Daiju Matsumura, Hiroyuki Saitoh, Masahiro Miyauchi, Jonah R. Adelman, Ryan M. L. McFadden, Derek Fujimoto, John O. Ticknor, Monika Stachura, Iain McKenzie, G. D. Morris, W. A. MacFarlane, Jun Sugiyama, Katsuyuki Fukutani, Shinji Tsuneyuki, Taro Hitosugi
Abstract
繰り返し可能な光誘起絶縁体-金属転移をYOxHyエピタキシャル薄膜で見いだした。紫外レーザーの照射により電気抵抗の温度依存性が絶縁体的な振る舞いから金属的なものに変化した。Ar中で125℃でアニールすると絶縁体に戻り、紫外レーザーを照射すると再度金属的な状態に戻った。第一原理計算の結果、伝導は八面体サイトの水素の電荷状態の変化に起因することが示された。
Topics & Concepts
Materials scienceYttriumMetalMetal–insulator transitionUltravioletEpitaxyHydrogenElectrical resistivity and conductivityInsulator (electricity)Thin filmOctahedronTransition metalConductivityOptoelectronicsCrystallographyNanotechnologyPhysical chemistryChemistryCrystal structureMetallurgyOxideCatalysisEngineeringLayer (electronics)BiochemistryOrganic chemistryElectrical engineeringHydrogen Storage and MaterialsNuclear Materials and PropertiesCatalytic Processes in Materials Science