Raman Analysis and Electrochemical Reduction of Silicate Ions in Molten NaCl–CaCl₂

Abstract

This study investigated the ionic species and electrochemical reduction of silicate ions at a solid graphite electrode in molten NaCl–CaCl 2 eutectic melts with various concentrations of O 2− ion at 1023 K. Silicate ion species in the melts with various O 2− /SiO 2 ratios ( <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" overflow="scroll"> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mi>r</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:msup> <mml:mrow> <mml:mi>O</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> <mml:mo>−</mml:mo> </mml:mrow> </mml:msup> <mml:mo>/</mml:mo> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mtext>SiO</mml:mtext> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:mrow> </mml:msub> <mml:mo stretchy="false">)</mml:mo> </mml:math> were determined by Raman spectroscopy. The dominant species was SiO 3 2− for <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" overflow="scroll"> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mi>r</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:msup> <mml:mrow> <mml:mi>O</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> <mml:mo>−</mml:mo> </mml:mrow> </mml:msup> <mml:mo>/</mml:mo> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mtext>SiO</mml:mtext> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:math> = 1.0, and SiO 4 4− for <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" overflow="scroll"> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mi>r</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:msup> <mml:mrow> <mml:mi>O</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> <mml:mo>−</mml:mo> </mml:mrow> </mml:msup> <mml:mo>/</mml:mo> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mtext>SiO</mml:mtext> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:math> = 1.5 and 2.0. From cyclic voltammetry, XRD, and SEM analyses, electrochemical reduction was indicated for SiO 3 2− and SiO 4 4− at more negative than 1.0 V and 0.80 V vs Na + /Na, respectively. Formation of CaSi 2 was confirmed at 0.50 V in all molten salts with <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" overflow="scroll"> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mi>r</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:msup> <mml:mrow> <mml:mi>O</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> <mml:mo>−</mml:mo> </mml:mrow> </mml:msup> <mml:mo>/</mml:mo> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mtext>SiO</mml:mtext> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:math> = 1.0, 1.5, and 2.0. The potential ranges for pure Si deposition are almost the same in molten salts with <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" overflow="scroll"> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mi>r</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:msup> <mml:mrow> <mml:mi>O</mml:mi> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> <mml:mo>−</mml:mo> </mml:mrow> </mml:msup> <mml:mo>/</mml:mo> <mml:msub> <mml:mrow> <mml:mtext>SiO</mml:mtext> </mml:mrow> <mml:mrow> <mml:mn>2</mml:mn> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:mrow> </mml:msub> </mml:math> = 1.0 and 1.5.

Topics & Concepts